밀리터리

온 세상에서 반도체의 증산 체제가 갖추어지고 가고 있습니다.

삼성이나 SK등의 한국 기업이 멸망해도,

세계의 반도체 시장에는 전혀 문제 없습니다.

대만, 한국을 제쳐 세계 최대의 반도체 제조 장치 시장에 업계 단체가 예측

반도체 제조 장치·재료의 업계 단체, 국제 반도체 제조 장치 재료 협회(SEMI, 본부·미국 캘리포니아주)는, 이번에 발표한 시장 예측에 관한 2019년의 중간 보고로, 대만이 한국을 제쳐 세계 최대의 반도체 제조 장치 시장이 될 전망을 나타냈다.

보고는 미 샌프란시스코에서9~11일의 일정에 개최된 반도체 제조 장치의 상품 전시회 「세미 콘 웨스트」로 발표되었다.SEMI는 반도체 산업의 경기감속을 받아 메이커가 설비 투자를 억제하는 경향에 있다고 한 다음, 금년의 제조 장치의 세계 판매액은 전년대비 18.4%감소의 527억 미 달러( 약 5조 7000억엔)가 되어, 성장을 전망할 수 있는 것은 대만과 미국만과 예측.이 중 대만은 123억 1000만 달러( 약 1조 3300억엔)에 이르러 성장률이 전년대비 21.1%과 큰폭으로 성장하는 것 외에 시장규모도 최대가 된다고 하고 있다.

대만 기업의 금년의 설비 투자는, 반도체 수탁 생산 오테, 대만적체 전기회로 제조(TSMC)가 100억~110억 달러( 약 1조 800억~1조 1900억엔)의 고수준을 유지.같은 반도체 파운드리의 세계 선진(VIS)은 싱가폴에 있는 미 그로바르파운드리즈의 200밀리 웨퍼 공장을 매수하는 것이 결정되어 있어 117억 대만원( 약 410억엔)이 될 전망.이 외 , 메모리 메이커의 윈 본드·엘렉트로닉스(화방전자)는 고웅시에 신공장을 건설하기 위해서 지출이 전년부터 약 3 할증가 해, 215억엔( 약 750억엔)에 오른다고 보여진다.

SEMI는 내년의 반도체 제조 장치의 세계 판매액에 대해서, 메모리 투자의 복조나 중국에서의 공장의 신증설등을 받아 반도체 시장의 회복을 기대할 수 있어 금년보다 11.6%증가한다고 예측하고 있다.

http://japan.cna.com.tw/news/aeco/201907110006.aspx

마이크론, 히로시마 공장의 확장 공사를 완료 - 연말보다 1Znm DRAM의 생산을 계획

Micron Technology(마이크론 테크놀로지)는 6월 11일, 동사 히로시마 공장에서 건설을 진행시키고 있던 신제조동(B2동)의 준공 기념식전을 개최.아울러, 신동의 동사로의 역할이나, 향후의 기술 도로지도를 공개했다.

B2동은, 동사가 진행하는 DRAM의 프로세스 미세화를 구현화하는 역할을 담당하는 「마이크론 첨단기술 DRAM 센터·오브·엑셀런스(COE)」라고 하는 위치설정으로, 본사가 있는 미국 보이지의 연구 개발 COE로 만들어진 첨단 프로세스 DRAM의 생산기술을 실제의 양산 라인에 떨어뜨리기 위한 선행 시작 라인이라고 하는 역할 및, 첨단 DRAM의 연구 개발 거점으로서의 역할도 담당하는 동사의 일대 첨단 DRAM 연구 개발 거점이 된다.동사 프레지던트겸CEO의 산제이·멜로우 호랑이씨는, 「DRAM의 개발, 생산이 1이나 곳에 집약된 히로시마 공장은, 그룹 전체의 글로벌 전략을 수행하기에 즈음해 열쇠가 되는 거점.향후의 마이크론의 첨단 DRAM 프로세스 개발의 거점이 된다」라고 설명한다.

또, 왜 일본에 그러한 거점을 마련했는지, 라고 하는 이유에 대해 동씨는, 「일본에는 자동차나 전기, 산업 기기 등 매력적인 기업이 많다.또, 반도체 제조 장치나 재료등의 메이커도 많이 존재하고 있다.그러한 시장에의 유연한 대응을 도모할 수 있는 것에 가세해 파트너십의 강화도 도모할 수 있다고 하는 이유가 있어, 이러한 투자를 실시해 가는 것으로, 일본의 산업 발전에 공헌할 수 있는 것이라고 생각하고 있다」라고 시장으로서의 매력이 있다 뿐만이 아니고, 파트너 기업도 많이 존재하는 지역인 것을 강조했다.

이러한 매력적인 지역인 일도 밟아 동사는 이번 기념식전의 개최에 아울러 히로시마 대학에 15만 달러의 기부를 실시하는 것을 발표.2018년에도 동액의 기부를 실시하고 있어 이러한 기부금은, 나노 디바이스·바이오 융합 과학 연구소의 설비 확충이나 여성 연구자에게의 지원, 고교생에게의 대학 레벨의 연구 체험 제공 등에 활용되어 갈 예정이라고 한다.또, 향후 3년간에 500명의 올해 졸업자 엔지니어를 중심으로 한 채용도 가고 간다고 한다.

2019년말에는 1 Z세대의 생산을 개시

B2동은 4층건물에서, 클린 룸은 3층 부분에 설치(나머지의 플로어는 공장을 가동시키기 위한 각종 퍼실리티).넓이는 약 7200m2로, 처음에 생산되는 것은 20 nm미만에 있어서의 제2세대 프로세스가 되는 1 Ynm 프로세스.동프로세스 자체는, 히로시마 공장에서는 2018년부터 시작을 하고 있었지만, B2동의 준공에 의해, 볼륨 생산이 가능해졌다.1 Ynm품은, 하반기에 걸쳐 생산 수량의 증가를 도모되어 가는 것 외에 연말에는 제3세대 프로세스가 되는 1 Znm 프로세스의 시작도 행해질 예정으로, 모두 저소비 전력 DRAM인 LPDDR4를 중심으로 적용되어 갈 전망.제품 비율의 향상에 아울러, 동공장에서 길러진 프로세스를 대만의 공장으로 적용해, 대규모 양산 전개를 도모하는 것이 계획되고 있다.

또, 동사는 1 Znm 프로세스 세대 이후라고 해도 1α nm, 1β nm, 1γ nm와 미세화를 진행시켜 나갈 것을 밝히고 있어1α, 1β nm프로세스에 대응 예정의 F동도 일부이지만 히로시마 공장내에서 건설이 개시되는 등, 계속 일본 지역에의 투자를 실시해 가면 하고 있어, 그 액도 지금까지의 투자를 포함해 누계로 수십억 달러에 미친다고 하고 있다.

F동의 구체적인 준공 시기등에 대해서는, 동사의 투자 계획의 국면 2에 자리 매김되고 있어(B2동의 준공까지가 국면 1), 클린 룸의 시작 시기등에 대해서는, ?`세 분명히는 정해지지 않고, 향후의 기술적인 진전이나 수급 밸런스의 상황등을 근거로 하고, 투자의 판단을 실시해 간다고 하고 있다.

덧붙여 동사는 벌써 1β nm프로세스까지는 적어도 DRAM 생산에는 EUV의 적용은 코스트적인 메리트가 없기 때문에, 계속 조사는 계속해 가지만, 양산 프로세스에의 적용은 필요없다는 판단을 나타내고 있어 코스트적으로 양산에 있어서의 유효성을 판단할 수 없을지는 현상의 ArF액침노광에 의한 제조를 실시해 간다고 하고 있다.

https://news.mynavi.jp/article/20190612-841736/

<토시바 메모리>신공장 기공 북상으로의 반도체 증산에 한 걸음

 이와테현 키타카미시에의 진출을 표명하고 있던 반도체 대기업 「토시바 메모리」(도쿄)의 신공장 기공식이 24일, 현지에서 만났다.투자 규모는 1조엔초과.기억 매체 「3 차원 플래쉬 메모리」를 생산하는 제조동은 2019년 가을의 완성 예정으로, 20년의 제품 출하를 목표로 한다.
 4만 평방 미터의 부지에 철골 5층의 제조동을 건설해, 19년 봄부터 차례차례, 제조 설비를 반입한다.건설비는 약 1000억엔, 제조 설비비는 9000억엔 이상을 전망한다.
 풀 가동시에는 약 1000명이 근무해, 인공지능(AI)의 도입으로 생산성을 높인다.기공식에서 나루모 야스오 사장은 「반도체 시장에서 계속 이겨 지역에 공헌해 나간다」라고 포부를 말했다.
 이와테현의 탓소 타쿠야 지사는 「일본의 최첨단의 만들기가 이와테에 집결하게 된다.함께 성장해 가고 싶다」라고 이야기했다.
 토시바 메모리는, 토시바의 반도체 사업을 분사화 해 17년 4월에 설립.토시바는 미원발사업의 손실을 보충하기 위해서 금년 6월, 미 펀드를 중심으로 하는 일·미·한 기업연합에 2조엔으로 매각했다.
 시장점유율은 한국 삼성 전자에 뒤잇는 세계 2위로, 18년 3월기의 영업이익은 4791억엔.미에현 요카이치시?`노 있다 주력 공장에 북상 신공장이 더해져, 증산 체제를 정돈한다.

https://www.kahoku.co.jp/tohokunews/201807/20180725_32020.html 


三星崩壊でも世界の半導体市場に問題なし

世界中で半導体の増産体制が整っていってます。

三星やSKなどの韓国企業が滅びても、

世界の半導体市場には全く問題ありません。 

 

 

台湾、韓国を抜いて世界最大の半導体製造装置市場に 業界団体が予測

 

半導体製造装置・材料の業界団体、国際半導体製造装置材料協会(SEMI、本部・米カリフォルニア州)は、このほど発表した市場予測に関する2019年の中間報告で、台湾が韓国を抜いて世界最大の半導体製造装置市場となる見通しを示した。

報告は米サンフランシスコで9~11日の日程で開催された半導体製造装置の見本市「セミコンウエスト」で発表された。SEMIは半導体産業の景気減速を受けてメーカーが設備投資を抑える傾向にあるとした上で、今年の製造装置の世界販売額は前年比18.4%減の527億米ドル(約5兆7000億円)となり、成長が見込めるのは台湾と米国のみと予測。このうち台湾は123億1000万ドル(約1兆3300億円)に達して成長率が前年比21.1%と大幅に伸びるほか、市場規模も最大となるとしている。

台湾企業の今年の設備投資は、半導体受託生産大手、台湾積体電路製造(TSMC)が100億~110億ドル(約1兆800億~1兆1900億円)の高水準を維持。同じく半導体ファウンドリの世界先進(VIS)はシンガポールにある米グローバルファウンドリーズの200ミリウエハー工場を買収することが決定しており、117億台湾元(約410億円)となる見込み。このほか、メモリーメーカーのウィンボンド・エレクトロニクス(華邦電子)は高雄市に新工場を建設するために支出が前年より約3割増加し、215億元(約750億円)に上るとみられる。

SEMIは来年の半導体製造装置の世界販売額について、メモリー投資の復調や中国での工場の新増設などを受けて半導体市場の回復が期待でき、今年より11.6%増加すると予測している。 

 

http://japan.cna.com.tw/news/aeco/201907110006.aspx 

 

 

マイクロン、広島工場の拡張工事を完了 - 年末より1Znm DRAMの生産を計画

 

Micron Technology(マイクロンテクノロジー)は6月11日、同社広島工場で建設を進めていた新製造棟(B2棟)の竣工記念式典を開催。併せて、新棟の同社での役割や、今後の技術ロードマップを公開した。

B2棟は、同社が進めるDRAMのプロセス微細化を具現化する役割を担う「マイクロン先端技術DRAMセンター・オブ・エクセレンス(COE)」という位置づけで、本社のある米国ボイジーの研究開発COEで生み出された先端プロセスDRAMの生産技術を実際の量産ラインに落とし込むための先行試作ラインという役割ならびに、先端DRAMの研究開発拠点としての役割も担う同社の一大先端DRAM研究開発拠点となる。同社プレジデント兼CEOのサンジェイ・メロートラ氏は、「DRAMの開発、生産が一か所に集約された広島工場は、グループ全体のグローバル戦略を遂行するにあたってカギとなる拠点。今後のマイクロンの先端DRAMプロセス開発の拠点となる」と説明する。

また、なぜ日本にそうした拠点を設けたのか、という理由について同氏は、「日本には自動車や電機、産業機器など魅力的な企業が多い。また、半導体製造装置や材料などのメーカーも多く存在している。そうした市場への柔軟な対応を図ることができることに加え、パートナーシップの強化も図れるという意味あいがあり、こうした投資を行っていくことで、日本の産業発展に貢献できるものと考えている」と市場としての魅力があるだけでなく、パートナー企業も多く存在する地域であることを強調した。

こうした魅力的な地域であることも踏まえ、同社は今回の記念式典の開催に併せて広島大学に15万ドルの寄付を行うことを発表。2018年にも同額の寄付を行っており、こうした寄付金は、ナノデバイス・バイオ融合科学研究所の設備拡充や女性研究者への支援、高校生への大学レベルの研究体験提供などに活用されていく予定だという。また、今後3年間で500名の新卒エンジニアを中心とした採用も行っていくとする。

2019年末には1Z世代の生産を開始

B2棟は4階建てで、クリーンルームは3階部分に設置(残りのフロアは工場を稼働させるための各種ファシリティ)。広さは約7200m2で、はじめに生産されるのは20nm未満における第2世代プロセスとなる1Ynmプロセス。同プロセス自体は、広島工場では2018年より立ち上げが行われていたが、B2棟の竣工により、ボリューム生産が可能となった。1Ynm品は、下期にかけて生産数量の増加が図られていくほか、年末には第3世代プロセスとなる1Znmプロセスの立ち上げも行われる予定で、いずれも低消費電力DRAMであるLPDDR4を中心に適用されていく見通し。歩留まりの向上に併せて、同工場で培われたプロセスを台湾の工場へと適用し、大規模量産展開を図ることが計画されている。

また、同社は1Znmプロセス世代以降としても1αnm、1βnm、1γnmと微細化を進めていくことを明らかにしており、1α、1βnmプロセスに対応予定のF棟も一部だが広島工場内にて建設が開始されるなど、引き続き日本地域への投資を行っていくとしており、その額もこれまでの投資を含め、累計で数十億ドルにおよぶとしている。

F棟の具体的な竣工時期などについては、同社の投資計画のフェーズ2に位置づけられており(B2棟の竣工までがフェーズ1)、クリーンルームの立ち上げ時期などについては、まだはっきりとは決まっておらず、今後の技術的な進展や需給バランスの状況などを踏まえて、投資の判断を行っていくとしている。

なお、同社はすでに1βnmプロセスまでは少なくともDRAM生産にはEUVの適用はコスト的なメリットがないため、引き続き調査は続けていくものの、量産プロセスへの適用は必要ないとの判断を示しており、コスト的に量産における有効性が判断できるまでは現状のArF液浸露光による製造を行っていくとしている。 

 

https://news.mynavi.jp/article/20190612-841736/

 

 

<東芝メモリ>新工場起工 北上での半導体増産へ一歩

 

 岩手県北上市への進出を表明していた半導体大手「東芝メモリ」(東京)の新工場起工式が24日、現地であった。投資規模は1兆円超。記憶媒体「3次元フラッシュメモリ」を生産する製造棟は2019年秋の完成予定で、20年の製品出荷を目指す。
 4万平方メートルの敷地に鉄骨5階の製造棟を建設し、19年春から順次、製造設備を搬入する。建設費は約1000億円、製造設備費は9000億円以上を見込む。
 フル稼働時には約1000人が勤務し、人工知能(AI)の導入で生産性を高める。起工式で成毛康雄社長は「半導体市場で勝ち続け、地域に貢献していく」と抱負を述べた。
 岩手県の達増拓也知事は「日本の最先端のものづくりが岩手に集結することになる。一緒に成長していきたい」と話した。
 東芝メモリは、東芝の半導体事業を分社化して17年4月に設立。東芝は米原発事業の損失を穴埋めするために今年6月、米ファンドを中心とする日米韓企業連合に2兆円で売却した。
 市場占有率は韓国サムスン電子に次ぐ世界2位で、18年3月期の営業利益は4791億円。三重県四日市市にある主力工場に北上新工場が加わり、増産体制を整える。

 

https://www.kahoku.co.jp/tohokunews/201807/20180725_32020.html  

 

 



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