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일본의 반도체 전략이 착실하게 진행, 세계의 구도에 「무시할 수 없는 영향」준다-중국 미디어


일본 국경일의 환

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2023년 8월 14일, 중국 미디어의 제일재경은, 일본이 반도체 전략을 착실하게 진행하고 있어, 그 움직임을 경시해서는 안된다고 하는 문장을 게재했다.

문장은, 선진국이 21 세기에 있어서의 반도체 산업의 중요성을 인식하고 있는 중, 일찌기 반도체 대국인 일본도 움직이기 시작하고 있어 일본의 경제 산업성이 21년 6월에 「반도체·디지털 산업 전략」을 밝혀, 금융 지원등을 통해서, 세계적인 반도체 경쟁으로 고쳐 참가하는 자세를 나타냈다고 소개.그리고 2년간에 일본의 반도체 전략은 착실하게 실행되고 있어 세계의 반도체 경쟁의 구도에 무시할 수 없는 영향을 줄 것이라고 했다.

그리고, 일본의 반도체 전략에 대해 세 개의 스텝으로 나누어 설명.우선 제1 스텝은 IoT 디바이스를 위한  반도체 생산 인프라를 강화하는 것이어, 일본 정부는 해외의 팁 메이커의 공장 건설 유치와 함께, 인센티브와 보조금을 통해서 국내의 반도체 생산을 촉진하고 있다고 했다.그 상징적인 예가 대만 TSMC의 일본 공장 건설 계획이며, 금년 1월에는 일본에서 2번째의 반도체 공장 건설을 검토하고 있는 것이 밝혀진 것 외, 7월 5일에는 같이 대만의 힘정반도체가 일본의 SBI와 공동으로 수천억엔을 투자해, 빠르면 2020년대 중반에 가동할 예정의 공장을 건설한다고 발표한 것을 전하고 있다.

제2 스텝은, 미국과의 차세대 반도체 기술의 공동 개발이다.문장은, 일본의 산업기술 종합 연구소가 2 나노 프로세스 팁을 개발하기 위한 「첨단 반도체 제조 기술 컨소시엄」을 설립해, 인텔과 IBM도 참가했다고 소개.지금까지 일본은 40 나노 프로세스 팁의 제조 기술 밖에 장악 있지 않고, 40 나노에서 2 나노에 단번에 비약한다고 할 결의는, 일본의 큰 야심을 나타내고 있다고 평가했다.그리고 제3 스텝으로서보다 대규모 국제 협력을 계획해 장래의 반도체 기술을 한층 더 높인다고 소개했다.

또, 일본에는 산업 정책에 의해서 반도체 개발을 지원한 풍부한 경험을 가진다고 해, 일본 정부가 1976년에 3억 달러를 투자해 후지쯔, 히타치 제작소, NEC, 미츠비시 전기, NTT, 토시바의 일본의 대기업 컴퓨터 기업 6사와 「초LSI 기술 연구 조합」을 설립, 4년간의 공동 연구를 거쳐 전자빔 노광(EBL) 기술의 개발에 성공해, 88년에 일본이 세계 반도체 매상고의 51%의 쉐어를 획득하는 발판을 만들었다고 전했다.

문장은 그 위에, 일본 정부의 반도체 전략이 글로벌화의 질적 변화의 산물이며, 안전 보장에의 배려가 경제 효율보다 우선되게 되었다고 지적.일본 정부는 지금까지의 산업 정책의 실패를 벌써 인식하고 있어 「미국이 전략 실시에 대해 일본의 협력을 강요하는 가운데, 일본은 미국과 협력하면서도 반도체의 「전략적 자주성」을 제창하고 있다」라고 했다.그리고, 일본 정부 관계자가 디지털판 「열도 개조론」이라고 평가하고 있는 반도체·디지털 산업 전략의 성공 여부가, 수년후의 시장에서 시험 받게 될 것이라고 묶었다.

 


日本の半導体戦略に中国が震え上がった

日本の半導体戦略が着実に進行、世界の構図に「無視できない影響」与える―中国メディア


日本国旗 日の丸

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2023年8月14日、中国メディアの第一財経は、日本が半導体戦略を着実に進めており、その動きを軽視すべきではないとする文章を掲載した。

文章は、先進国が21世紀における半導体産業の重要性を認識している中、かつて半導体大国であった日本も動き出しており、日本の経済産業省が21年6月に「半導体・デジタル産業戦略」を打ち出し、金融支援などを通じて、世界的な半導体競争に改めて参入する姿勢を示したと紹介。それから2年の間に日本の半導体戦略は着実に実行されており、世界の半導体競争の構図に無視できない影響を与えるだろうとした。

そして、日本の半導体戦略について三つのステップに分けて説明。まず第1ステップはIoTデバイス向け半導体生産インフラを強化することであり、日本政府は海外のチップメーカーの工場建設誘致とともに、インセンティブと補助金を通じて国内の半導体生産を促進しているとした。その象徴的な例が台湾TSMCの日本工場建設計画であり、今年1月には日本で2番目の半導体工場建設を検討していることが明らかになったほか、7月5日には同じく台湾の力晶半導体が日本のSBIと共同で数千億円を投資し、早ければ2020年代半ばに稼働する予定の工場を建設すると発表したことを伝えている。

第2ステップは、米国との次世代半導体技術の共同開発だ。文章は、日本の産業技術総合研究所が2ナノプロセスチップを開発するための「先端半導体製造技術コンソーシアム」を設立し、インテルとIBMも参加したと紹介。これまで日本は40ナノプロセスチップの製造技術しか掌握しておらず、40ナノから2ナノへ一気に飛躍するという決意は、日本の大きな野心を示していると評した。そして第3ステップとして、より大規模な国際協力を計画して将来の半導体技術をさらに高めると紹介した。

また、日本には産業政策によって半導体開発を支援した豊富な経験を持つとし、日本政府が1976年に3億ドルを投じて富士通、日立製作所、NEC、三菱電機、NTT、東芝の日本の大手コンピューター企業6社と「超LSI技術研究組合」を設立、4年間の共同研究を経て電子ビーム露光(EBL)技術の開発に成功し、88年に日本が世界半導体売上高の51%のシェアを獲得する足がかりを作ったと伝えた。

文章はその上で、日本政府の半導体戦略がグローバル化の質的変化の産物であり、安全保障への配慮が経済効率よりも優先されるようになったと指摘。日本政府はこれまでの産業政策の失敗をすでに認識しており「米国が戦略実施において日本の協力を迫る中で、日本は米国と協力しつつも半導体の『戦略的自主性』を提唱している」とした。そして、日本政府関係者がデジタル版「列島改造論」と位置づけている半導体・デジタル産業戦略の成否が、数年後の市場で試されることになるだろうと結んだ。



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