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상반기 R&D108200억원 집행…역대 ‘최대 규모’


반도체 시설투자만 209000억…작년보다 42% 많아


삼성전자가 올해 상반기 반도체, 디스플레이 등 핵심 주력산업의 기술 경쟁력 강화를 위한 연구개발(R&D)에 사상 최대 규모인 108200억원을 투입한 것으로 나타났다.

아울러 메모리, 파운드리(위탁생산) 반도체 시장 수요 확대에 적기 대응하기 위한 시설투자에도 올 상반기 23조원 이상이 집행됐다.



30일 삼성전자에 따르면 회사의 올해 2분기 R&D 비용 총계는 5조3800억원으로 집계됐다.

이는 역대 분기 기준 사상 최대치였던 지난 1분기 5조4400억원보다는 1.1% 감소했지만 전년 동기(5조2200억원)보다는 3.1% 증가한 수준이다.

1분기와 2분기를 합친 2021년 상반기 R&D 비용 합계는 108200억원으로 역대 삼성전자의 반기 기준 연구개발비 지출액 중 최대다. 2020년 상반기의 105776억원보다도 2.3% 늘었다.



삼성전자에 따르면 올해 상반기 전체 시설투자액은 233000억원으로 나타났다. 이는 전년 동기 17778억원과 비교해 36.4% 증가한 규모다.

2분기만 놓고보면 시설투자액만 136000억원에 달한다.



특히 올 상반기 시설투자액 233000억원에서 90%에 육박하는 209000억원이 반도체 분야에 쓰였다. 반도체 팹의 생산능력 확대와 설비구입 등에 쓰인 21조원에 육박하는 투자액은 전년 동기와 비교해 무려 42.3% 증가했다.


https://news.naver.com/main/read.naver?mode=LSD∣=sec&sid1=101&oid=421&aid=0005511537


올해 삼성전자의 R&D 투자액은 22조원 전망, 설비 투자액은 50조원에 근접할 전망





三星電子上半期 R&Dに 10兆8200億ウォン執行


上半期 R&D108200億ウォン執行…歴代 ‘最大規模’


半導体施設投資だけ 209000億…去年より 42% 多くて


三星電子が今年上半期半導体, ディスプレーなど核心主力産業の技術競争力強化のための研究開発(R&D)に史上最大規模である 108200億ウォンを投入したことで現われた.

同時にメモリー, パウンドリ(委託生産) 半導体市場数です拡大に適期対応するための施設投資にも今年の上半期 23兆ウォン以上が執行された.



30である三星電子によれば会社の今年 2半期 R&D 費用総計は 5兆3800億ウォンに集計された.

これは歴代半期基準史上最大値だった去る 1半期 5兆4400億ウォンよりは 1.1% 減少したが前年同期(5兆2200億ウォン)よりは 3.1% 増加した水準だ.

1半期と 2半期を合した 2021年上半期 R&D 費用合計は 108200億ウォンで歴代三星電子の半旗基準研究開発コスト支出額の中で最大だ. 2020年上半期の 105776億ウォンよりも 2.3% 増えた.



三星電子によれば今年上半期全体施設投資額は 233000億ウォンで現われた. これは前年同期 17778億ウォンと比べて 36.4% 増加した規模だ.

2半期さえおいてみると施設投資額だけ 136000億ウォンに達する.



特に今年の上半期施設投資額 233000億ウォンで 90%に迫る 209000億ウォンが半導体分野に使われた. 半導体ペブの生産能力拡大と設備購入などに使われた 21兆ウォンに迫る投資額は前年同期と比べておおよそ 42.3% 増加した.


https://news.naver.com/main/read.naver?mode=LSD|=sec&sid1=101&oid=421&aid=0005511537


今年三星電子の R&D 投資額は 22兆ウォン見込み, 設備投資額は 50兆ウォンに近接する見込み






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