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三星電子 FPD 2011で酸化物半導体技術を適用した OSI パネル公開
ライター
5 seunghoon86
作成日
2011-10-26 11:05:52
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81

三星電子 FPD 2011で酸化物半導体技術を適用した OSI パネル公開


 

src=http://imgnews.naver.com/image/029/2011/10/26/2011102602019932718002.jpg

三星電子(代表催知性)は 26日から 28日まで日本横浜で開かれる `FPD 2011`に参加して多様なディスプレー製品と差別化された技術をお目見えした.

写真は三星電子コンパニオンが酸化物半導体技術を適用した OSI(Oxide Semiconductor Integration) パネルを紹介する姿.

横浜(日本)=異形根気者 bass007@

◆異形根気者のブルログ : http://blog.dt.co.kr/blog/?mb_id=bass007


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삼성전자 FPD 2011에서 산화물반도체 기술을 적용한 OSI 패널 공개

삼성전자 FPD 2011에서 산화물반도체 기술을 적용한 OSI 패널 공개



삼성전자(대표 최지성)는 26일부터 28일까지 일본 요코하마에서 열리는 `FPD 2011`에 참가해 다양한 디스플레이 제품과 차별화된 기술을 선보였다.

사진은 삼성전자 도우미가 산화물반도체 기술을 적용한 OSI(Oxide Semiconductor Integration) 패널을 소개하는 모습.

요코하마(일본)=이형근기자 bass007@

▶이형근기자의 블로그 : http://blog.dt.co.kr/blog/?mb_id=bass007

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