6년전에 특허 받은 훅화 수소 기업 「왜일까 향후도 상용화 불가능」선언

99.99999999%의 훅화 수소 특허 취득하면서 8년 방치한 한국 기업 「논의의 끝, 영원히도 불가능이라고 판단했다」

양자의 시큐러티를 이용한 반도체 제조 데모 프로세스

　23일 오전 9시, 충청남도금산(틀남드·쿠무산)의 화학 플랜트 기업 C＆B산업의 회의실.동사 임원진은 이 날, 6년전에 취득한 초고순도 훅화 수소의 특허 출원서를 꺼내 다시 액을 맞대었다.독자 개발한 초고순도 훅화 수소 정제 기술의 상용화를 둘러싸 2시간에 걸쳐 격렬한 토론의 끝에 내린 결론은, 6년전과 같이 「불가」였다.동사의 김 대표는 회의 직후 「우리의 기술은 자신이 있다가 적지 않은 비용과 비싼 참가 장벽은 그 때나 현재도 같은 것」이라고 이야기했다.초고순도 훅화 수소를 6년전에 개발했지만, 매상 100억원 정도의 중소기업으로서는 이번도 자력으로의 상용화는 불가능하다고 하는 판단을 내렸던 것이다.

　이 회사가 반도체 공정에 사용되는 초고순도 훅화 수소 기술을 개발한 것은 2011년.2013년에는 특허 출원까지 끝냈다.훅화 수소에 있는 수십 종류의 불순물의 비율을 10억분의 1까지 없애는 기술이 특허의 핵심이다.훅화 수소에 소량의 과산화 수소를 넣은 후에 초음파를 조사해 없애는 것이 가장 어려운 불순물의 하나인 비소가 많이 접착되도록(듯이) 하고 순도를 높인 기술이다.특허 내용을 보면 일본이 수출을 규제하고 있는 순도 99.999%(파이브나인)보다 훨씬 높은 99.99999999%(텐나인)의 훅화 수소를 정제 할 수 있는 것을 7회의 실험을 통해서 입증했다고 동사는 주장했다.(※일본은 트에르브나인 99.999999999999※점이하가 12)

　사용하지 않고 두고 있던 특허를 다시 꺼낸 것은 최근 일본의 수출규제로 고순도 훅화 수소가 주목받아 상업화의 가능성을 타진하기 위해(때문에)였다.하지만 김 대표는 「당시나 지금도 우리와 같이 작은 중소기업이 직접 상용화하는 것은 용이하지 않을 것 같다」라고 이야기했다.그는 코스트와 인재 외에도, 훅화 수소 공장을 만드는 경우에 직면하는 지역 주민의 반대와 10개소 이상을 이리저리 다녀 닮은 내용의 허인가를 받는 것도 어렵다고 전했다.

　한국 정부는 이러한 소재 장비 기업의 곤란을 해소해 국산화율을 높이기 위해서 한국 나노 기술원이나 나노 융합 기술원, 나노 종합 기술원등을 운영하고 있다.10년 정도 전에 설립된 이것들 기관은 200밀리 웨퍼로 40나노미터급의 반도체 생산 장비나 소재를 테스트할 수 있다.하지만 삼성 전자나 SK하이 닉스는 현재 300밀리 웨퍼를 사용해7~14나노미터급의 반도체를 생산한다.한국 반도체 디스플레이 기술 협회의 이·젼히 전무는 「반도체 업계는 1일로 두지 못하고 슬캘링 다운 경쟁을 실시하고 있지만 중소기업을 활용할 수 있는 테스트 장비는10~15년전 수준으로 정체하고 있다」라고 이야기한다.

　실제로 한국 반도체 디스플레이 기술 학회가 작년 한국의 소재 장비 기업 66사를 대상으로 실시해 조사에서도 최종 기업이 요구하는 300밀리에 대응할 수 있는 시설을 갖춘 곳은 4사에 지나지 않았다.있다 업계 관계자는 「소재나 장비를 개발해도 삼성 전자나 SK하이 닉스의 양산 테스트를 받으려고 한다면 짐을 파오네라고 벨기에나 미국등을 왕래하면서 증명서를 취해 오지 않으면 안 된다」라고 이야기했다.

　성균관(손규그) 대학 신소재 공학부의 욤·군욘 교수는 「한국 경제로 차지하는 반도체의 비율이 큰 만큼 소재 장비 기업을 육성해야 한다.특히 반도체 소재 장비의 국산화율을 높이려면 300밀리 기반의 전후 공정이라고 분석 설비를 갖춘 1차 테스트 침대가 절실하다」라고 이야기했다.