23日午前9時、忠清南道錦山(チュンチョソナムド・クムサン)の化学プラント企業C&B産業の会議室。同社役員陣はこの日、6年前に取得した超高純度フッ化水素の特許出願書を取り出して再び額を突き合わせた。独自開発した超高純度フッ化水素精製技術の商用化をめぐり2時間にわたり激しい討論の末に下した結論は、6年前と同じく「不可」だった。同社のキム代表は会議直後「私たちの技術は自信があるが少なくない費用と高い参入障壁はその時も現在も同じこと」と話した。超高純度フッ化水素を6年前に開発したが、売り上げ100億ウォンほどの中小企業としては今回も自力での商用化は不可能だという判断を下したのだ。
この会社が半導体工程に使われる超高純度フッ化水素技術を開発したのは2011年。2013年には特許出願まで終えた。フッ化水素にある数十種類の不純物の割合を10億分の1まで取り除く技術が特許の核心だ。フッ化水素に少量の過酸化水素を入れた後に超音波を照射し取り除くのが最も難しい不純物のひとつであるヒ素がたくさん接着されるようにして純度を高めた技術だ。特許内容をみると日本が輸出を規制している純度99.999%(ファイブナイン)よりはるかに高い99.99999999%(テンナイン)のフッ化水素を精製できることを7回の実験を通じて立証したと同社は主張した。
使わずにおいていた特許を再び持ち出したのは最近日本の輸出規制で高純度フッ化水素が注目され商業化の可能性を打診するためだった。だがキム代表は「当時もいまも私たちのような小さな中小企業が直接商用化するのは容易ではなさそうだ」と話した。彼はコストと人材のほかにも、フッ化水素工場を作る場合に直面する地域住民の反対と、10カ所以上を駆け回り似た内容の許認可を受けるのも厳しいと伝えた。
キム代表の悩みは韓国の中小半導体素材装備企業が一様にぶつかっている障壁だ。素材や装備企業の場合、技術を開発して特許を出願しても商業化までは大小の山を越えなければならない。まず試作品生産ラインと各種分析装備を確保して1次テスト、専門機関の2次テスト、サムスン電子やSKハイニックスの量産テストなどを経なければならない。この会社の場合も10億ウォンほどする金属分析装備を購入し、パイロット生産ラインを構築することだけで40億~50億ウォンが必要なものと推算される。
韓国政府はこうした素材装備企業の困難を解消し国産化率を高めるために韓国ナノ技術院やナノ融合技術院、ナノ総合技術院などを運営している。10年ほど前に設立されたこれら機関は200ミリウエハーで40ナノメートル級の半導体生産装備や素材をテストできる。だがサムスン電子やSKハイニックスは現在300ミリウエハーを使って7~14ナノメートル級の半導体を生産する。韓国半導体ディスプレー技術協会のイ・ジョンヒ専務は「半導体業界は1日と置かずにスケーリングダウン競争を行っているが中小企業が活用できるテスト装備は10~15年前水準で停滞している」と話す。
実際に韓国半導体ディスプレー技術学会が昨年韓国の素材装備企業66社を対象に実施した調査でも最終企業が要求する300ミリに対応できる施設を備えたところは4社にすぎなかった。ある業界関係者は「素材や装備を開発してもサムスン電子やSKハイニックスの量産テストを受けようとするなら荷物を包えてベルギーや米国などを行き来しながら証明書を取ってこなければならない」と話した。
成均館(ソンギュングァン)大学新素材工学部のヨム・グンヨン教授は「韓国経済で占める半導体の割合が大きいだけに素材装備企業を育成しなければならない。特に半導体素材装備の国産化率を高めるには300ミリ基盤の前後工程と分析設備を備えた1次テストベッドが切実だ」と話した。
最終更新:7/24(水) 8:21
中央日報日本語版
https://headlines.yahoo.co.jp/hl?a=20190724-00000011-cnippou-kr
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23일 오전 9시,충청남도금산(틀쵸소남드·쿠무산)의 화학 플랜트 기업 C&B산업의 회의실.동사 임원진은 이 날, 6년전에 취득한 초고순도 훅화 수소의 특허 출원서를 꺼내 다시 액을 맞대었다.독자 개발한 초고순도 훅화 수소 정제 기술의 상용화를 둘러싸 2시간에 걸쳐 격렬한 토론의 끝에 내린 결론은, 6년전과 같이 「불가」였다.동사의 김 대표는 회의 직후 「우리의 기술은 자신이 있다가 적지 않은 비용과 비싼 참가 장벽은 그 때나 현재도 같은 것」이라고 이야기했다.초고순도 훅화 수소를 6년전에 개발했지만, 매상 100억원 정도의 중소기업으로서는 이번도 자력으로의 상용화는 불가능하다고 하는 판단을 내렸던 것이다.
이 회사가 반도체 공정에 사용되는 초고순도 훅화 수소 기술을 개발한 것은 2011년.2013년에는 특허 출원까지 끝냈다.훅화 수소에 있는 수십 종류의 불순물의 비율을 10억분의 1까지 없애는 기술이 특허의 핵심이다.훅화 수소에 소량의 과산화 수소를 넣은 후에 초음파를 조사해 없애는 것이 가장 어려운 불순물의 하나인 비소가 많이 접착되도록(듯이) 하고 순도를 높인 기술이다.특허 내용을 보면 일본이 수출을 규제하고 있는 순도 99.999%(파이브나인)보다 훨씬 높은 99.99999999%(텐나인)의 훅화 수소를 정제 할 수 있는 것을 7회의 실험을 통해서 입증했다고 동사는 주장했다.
사용하지 않고 두고 있던 특허를 다시 꺼낸 것은 최근 일본의수출규제로 고순도 훅화 수소가 주목받아 상업화의 가능성을 타진하기 위해(때문에)였다.하지만 김 대표는 「당시나 지금도 우리와 같이 작은 중소기업이 직접 상용화하는 것은 용이하지 않을 것 같다」라고 이야기했다.그는 코스트와 인재 외에도, 훅화 수소 공장을 만드는 경우에 직면하는 지역 주민의 반대와 10개소 이상을 이리저리 다녀 닮은 내용의 허인가를 받는 것도 어렵다고 전했다.
김 대표의 고민은 한국의 중소 반도체 소재 장비 기업이 한결같게 부딪치고 있는 장벽이다.소재나 장비 기업의 경우, 기술을 개발해 특허를 출원해도 상업화까지는 대소의 산을 넘지 않으면 안 된다.우선 시작품 생산 라인과 각종 분석 장비를 확보해 1차 테스트, 전문 기관의 2차 테스트,삼성 전자나SK하이 닉스의 양산 테스트등을 거치지 않으면 안 된다.이 회사의 경우도 10억원 정도 하는 금속 분석 장비를 구입해, 파일럿 생산 라인을 구축하는 것만으로 40억~50억원이 필요한 것과 추산된다.
한국 정부는 이러한 소재 장비 기업의 곤란을 해소해 국산화율을 높이기 위해서 한국 나노 기술원이나 나노 융합 기술원, 나노 종합 기술원등을 운영하고 있다.10년 정도 전에 설립된 이것들 기관은 200밀리 웨퍼로 40나노미터급의 반도체 생산 장비나 소재를 테스트할 수 있다.하지만 삼성 전자나 SK하이 닉스는 현재 300밀리 웨퍼를 사용해 7~14나노미터급의 반도체를 생산한다.한국 반도체 디스플레이 기술 협회의 이·젼히 전무는 「반도체 업계는 1일로 두지 못하고 슬캘링 다운 경쟁을 실시하고 있지만 중소기업을 활용할 수 있는 테스트 장비는 10~15년전 수준으로 정체하고 있다」라고 이야기한다.
실제로 한국 반도체 디스플레이 기술 학회가 작년 한국의 소재 장비 기업 66사를 대상으로 실시한 조사에서도 최종 기업이 요구하는 300밀리에 대응할 수 있는 시설을 갖춘 곳은 4사에 지나지 않았다.있다 업계 관계자는 「소재나 장비를 개발해도 삼성 전자나 SK하이 닉스의 양산 테스트를 받으려고 한다면 짐을 파오네라고 벨기에나 미국등을 왕래하면서 증명서를 취해 오지 않으면 안 된다」라고 이야기했다.
성균관(손규그) 대학 신소재 공학부의욤·군욘 교수는 「한국 경제로 차지하는 반도체의 비율이 큰 만큼 소재 장비 기업을 육성해야 한다.특히 반도체 소재 장비의 국산화율을 높이려면 300밀리 기반의 전후 공정이라고 분석 설비를 갖춘 1차 테스트 침대가 절실하다」라고 이야기했다.
최종 갱신:7/24(수) 8:21
중앙 일보 일본어판
https://headlines.yahoo.co.jp/hl?a=20190724-00000011-cnippou-kr
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