KIST 光電ハイブリッド研究センター
チップにパターン刻む新技術開発
10ナノ以下公正に適用
日本独占する素材必要なくて
半導体生産単価節減期待
日本が韓国輸出を禁止した ‘フォトレジスト(感光剤)’を使わなくて 10nm(ナノメートル) 以下の超精密半導体を製造することができる技術が開発された. フォトレジストは半導体光蝕刻(フォトリソグラフィ) 公正の核心素材だ.
https://news.v.daum.net/v/20190721181502600
"포토레지스트" 안 써도 되는 반도체 제조기술 나왔다
KIST 광전하이브리드연구센터
칩에 패턴 새기는 신기술 개발
10나노 이하 공정에 적용
일본 독점하는 소재 필요 없어
반도체 생산단가 절감 기대
일본이 한국 수출을 금지한 ‘포토레지스트(감광제)’를 쓰지 않고도 10㎚(나노미터) 이하의 초정밀 반도체를 제조할 수 있는 기술이 개발됐다. 포토레지스트는 반도체 광식각(포토리소그래피) 공정의 핵심 소재다.
https://news.v.daum.net/v/20190721181502600